Исследование распределения толщины покрытий, наносимых методом магнетронного распыления
Рассмотрено устройство магнетронной распылительной системы. Изучена модель Данилина для плоского кольцевого испарителя, которая была применена для расчета распределения толщины наносимого покрытия при разных вариациях плотности тока на катоде (равномерная, в виде треугольника и в виде полинома третьей степени), получены соответствующие графики. Было проанализировано соотношение между параметрами магнетронной распылительной системы, при котором наблюдалась наибольшая равномерность распределения толщины наносимой пленки. Проведено исследование профиля распыления мишени с отличным от нуля углом конусности. Было установлено, что при увеличении угла конусности в областях подложки, находящихся непосредственно над катодом, наблюдается сильное утолщение напыляемой пленки, а в центре и по краям подложки толщина, наоборот, сильно уменьшается – происходит перераспределение толщины. Были выявлены параметры мишени, при которых достигается наибольшая равномерность распределения пленки по толщине.
Авторы: В. В. Черниговский, С. А. Марцынюков, А. А. Лисенков, Д. К. Кострин
Направление: Физическая электроника и технологии микро- и наноструктур
Ключевые слова: Магнетронная распылительная система, модель Данилина, тонкие пленки, профиль покрытия
Открыть полный текст статьи